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低溫等離子除臭設(shè)備的凈化原理

未知, 2020-07-14 17:55, 次瀏覽

低溫等離子除臭設(shè)備的凈化原理
 
 
除臭設(shè)備的計(jì)凈化原理一:
 
除臭設(shè)備用***制的高能高臭氧UV紫外線光束照耀惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鍵,使呈游離狀況的污染物分子與臭氧氧化結(jié)組成小分子無害或低害的化合物,如CO2、H2O等。
 
除臭設(shè)備的凈化原理二: 使用高能高臭氧UV紫外線光束分化空氣中的氧分子發(fā)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,從而發(fā)生臭氧。
 
UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對(duì)有機(jī)物具有極強(qiáng)的氧化作用,對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有馬到成功的鏟除作用。
 
除臭設(shè)備的凈化原理三: 惡臭氣體使用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后,凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分化氧化反響,使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳,再經(jīng)過排風(fēng)管道排出室外。
 
除臭設(shè)備的凈化原理四: 使用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵,損壞細(xì)菌的核酸(DNA),再經(jīng)過臭氧進(jìn)行氧化反響,完全到達(dá)脫臭及殺滅細(xì)菌的意圖。


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